半导体薄膜技术与物理
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作者： 叶志镇编著
出 版 社： 浙江大学出版社
出版时间： 2008-9-1字数：版次： 1页数： 278印刷时间：开本： 16开印次： 1纸张：I S B N ： 9787308066174包装： 平装内容简介
本书共分十章，以叶志镇教授“半导体薄膜技术物理”讲义为基础编撰而成。第一章叙述了真空技术的基本知识；第二章至第八章是本书的核心内容，结合各种半导体材料，详细介绍了蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相沉积和湿化学合成等半导体薄膜技术与物理；第九章介绍了超晶格的相关知识，超晶格、量子阱是现代新型半导体器件的基础和关键；第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术，包括发光二极管、薄膜晶体管和紫外探测器。
作者简介
叶志镇，男，1955年5月生于浙江温州。1987年获浙江大学光仪系工学博士学位；毕业后留校工作，1990～1992年留学美国麻省理工学院（MIT）；1994年晋升为教授；1996年选为博导。现为浙江大学材料与化学工程学院副院长、浙江大学纳米中心主任。 1988年进入浙江大学材料系，在硅材料国家重点实验室一直从事半导体薄膜教学科研工作，主要研究方向：Zn0薄膜材料制备、物性调控及光电应用；纳米薄层材料高真空CVD技术研发及应用。现兼任国家自然科学基金委信息科学部评审组成员，全国电子材料专委副主任，全国半导体与集成技术、半导体材料和半导体物理专委委员等。
目录
第1章真空技术
§1.1真空的基本概念
1.1.1真空的定义
1.1.2真空度单位
1.1.3 真空区域划分
§1.2真空的获得
§1.3真空度测量
1.3.1热传导真空计
1.3.2 热阴极电离真空计
1.3.3 冷阴极电离真空计
§1.4真空度对薄膜工艺的影响
参考文献
第2章蒸发技术
§2.1发展历史与简介
§2.2蒸发的种类
2.2.1 电阻热蒸发
2.2.2 电子束蒸发
2.2.3 高频感应蒸发
2.2.4激光束蒸发
2.2.5 反应蒸发
§2.3蒸发的应用实例
2.3.1 Cu（In，Ga）Se2薄膜
2.3.2ITO薄膜
参考文献
第3章溅射技术
§3.1溅射基本原理
§3.2溅射主要参数
3.2.1溅射闽和溅射产额
3.2.2溅射粒子的能量和速度
3.2.3溅射速率和淀积速率
§3.3溅射装置及工艺
3.3.1 阴极溅射
3.3.2三极溅射和四极溅射
3.3.3射频溅射
3.3.4磁控溅射
3.3.5反应溅射
§3.4离子成膜技术
3.4.1 离子镀成膜
3.4.2 离子束成膜
§3.5溅射技术的应用
3.5.1溅射生长过程
3.5.2 溅射生长Zno薄膜的性能
参考文献
第4章化学气相沉积
§4.1概述
§4.2硅化学气相沉积
4.2.1 CVD反应类型
4.2.2 CVD热力学分析
4.2.3 CVD动力学分析
4.2.4 不同硅源的外延生长
4.2.5 成核
4.2.6掺杂
4.2.7外延层质量
4.2.8 生长工艺
§4.3CVD技术的种类
4.3.1 常压CVD
4.3.2低压CVD
4.3.3 超高真空CVD
……
第5章脉冲激光沉积
第6章分子束外延
第7章液相外延
第8章湿化学制备方法
第9章半导体超晶格和量子阱
第10章半导体器件制备技术
参考文献
书摘插图
第2章蒸发技术
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，简称PVD）是指在一定的真空条件下，利用热蒸发或辉光放电或弧光放电等物理过程使材料沉积在衬底上的薄膜制备技术。PVD是应用极为广泛的成膜技术，涉及化工、核工程、微电子以及相关工业工程。它主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。本章介绍的是PVD技术的第一类——一真空蒸发镀膜法，而真空溅射镀膜和离子镀膜将在下一章中予以介绍。
§2.1 发展历史与简介
将固体材料置于高真空环境中加热，使之升华或蒸发并沉积在特定衬底上以获得薄膜的工艺方法，称为真空蒸发镀膜法（简称蒸镀）。
……
